一、電子行業用水簡介

    半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

 

二、應用范圍

    1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

    2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。

    3、單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。

 

三、工藝簡介

    1、系統模塊化設計，共分四部分：預處理系統、反滲透系統、EDI系統、終端供水系統。

    2、預處理系統主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物，保證產水符合反滲透系統的進水水質要求。

    3、反滲透系統主要用來去除原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保證產水符合EDI系統進水水質要求。

    4、EDI系統主要用來對反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。

    5、終端供水系統主要是用來將合格水輸送至用水點，輸送過程中對EDI產生進行比較后的離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。

    6、整個系統進行集中控制。 

 

四、技術特色

    1、系統模塊化設計，占地面積小，操作維護方便，安裝方便快捷，整體美觀。

    2、整套系統實現全自動化運行，并且手動與自動自由切換。

    3、設備產水水質穩定，運行連續穩定。

    4、系統工藝先進，無需化學藥品再生，無危害性廢液排放。

    5、系統節水率高，系統回收率在75%以上。

    6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據上傳。

 

五、設備參數

    1、系統回收率：

        超濾≥90%

        一級反滲透≥75%

        二級反滲透≥85%

        EDI系統≥90%

    2、設備產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純水指標。

    3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。