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EDI超純水裝置

  為了滿足電子行業用水需求,根據光電材料,液晶顯示屏生產,加工,清洗等所需使用超純水標準,而設計的一套超純水設備。

  第一,EDI超純水設備出水符合標準

  超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

  第二,EDI超純水系統工藝流程

  預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

  第三,EDI應用領域

  電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

  電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

  顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

  黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

  液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

  晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制

  集成電路生產中高純水清洗硅片

  半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

  LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

  高品質顯像管、螢光粉生產

  半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

  超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

  實驗室和中試車間

  汽車、家電表面拋光處理

  光電產品、其他高科技精微產品


(責任編輯:李德馨)
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